重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计

综合 2024-12-25 00:12:53 96726

快科技10月25日消息,重大自主据华中科技大学官微消息,突破近日,芯片该校武汉光电国家研究中心团队,光刻攻克在国内率先攻克合成光刻胶所需的胶关键技原料和配方,助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。术被设计

据介绍,原材其研发的料全T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,部国实现了原材料全部国产,产配配方全自主设计,重大自主有望开创国内半导体光刻制造新局面。突破

公开资料显示,芯片光刻胶是光刻攻克一种感光材料,用于芯片制造的胶关键技光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。

当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光,经过一系列处理后,晶圆上就会得到所需的电路图。

由于光刻胶是芯片制造的关键材料,国外企业对其原料和配方高度保密,目前我国所使用的光刻胶九成以上依赖进口。

武汉光电国家研究中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。

相较于国外同系列某产品,T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm,且工艺宽容度更大、稳定性更高、留膜率更优,其对刻蚀工艺表现更好,通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异。

团队负责人表示:“以光刻技术的分子基础研究和原材料的开发为起点,最终获得具有自主知识产权的配方技术,这只是个开始。我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶,致力于突破国外卡脖子关键技术,为国内相关产业带来更多惊喜。”

重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计

本文地址:http://nba.bbs.yazhoubei8.com/news/06d699989.html
版权声明

本文仅代表作者观点,不代表本站立场。
本文系作者授权发表,未经许可,不得转载。

全站热门

网易内部通报高管贪腐:9人已被采取刑事强制措施

茅台市值突破万亿 蓝筹阵营还能呼风唤雨多久?

今天(12月14日)油价调整最新消息:下周汽油价格将大降价

胖东来员工平均工资最低到手7000元 保洁也不例外

联发科天玑8400即将发布:旗舰同款全大核架构

股市2018年放假安排时间表:春节于2月15日休市

小马奔腾创始人去世 法院一审判金燕承担2亿债务

猫咖20只猫饿到互相残杀?店主回应:谣言,有喂粮食和请人清洁

友情链接

滇ICP备2023012545号-126